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普泰柔性基材磁控濺射鍍膜機由核工業(yè)西南物理研究院自主設計，擁有完全自主知識產(chǎn)權(quán)并申請、獲得多項國家專利。
普泰柔性基材磁控濺射鍍膜機主要適用于在卷式柔性基材上鍍制大面積、高精度，熱蒸發(fā)及電子束鍍膜無法滿足要求的薄膜，附加值較高。鍍制的薄膜特點為均勻性好、膜層致密、膜基結(jié)合力好，非常適合應用在隔熱窗膜、寬幅柔性電路板等對性能和質(zhì)量有較高要求的領域。
普泰柔性基材磁控濺射鍍膜機主要配置
| 配置 | 作用及特點 |
| 真空系統(tǒng) | 真空獲得及測量 |
| Polycold系統(tǒng) | 除可凝性水氣等 |
| 冷熱水系統(tǒng) | -300С~300С，冷卻基材防止基材受熱變形 |
| 六套孿生靶系統(tǒng) | 可分別獨立使用 |
| PEM反應濺射控制系統(tǒng) | 提高反應濺射速度 |
| 光學在線監(jiān)測系統(tǒng) | 測可見光透、反射率 |
普泰柔性基材磁控濺射鍍膜機特點
| 項目 | 要求及特點 |
| 適用基材種類 | PET、PI等柔性基材 |
| 卷芯直徑 | 6英寸 |
| 基材寬度 | 1560mm |
| 鍍膜寬度 | 1540mm |
| 鍍膜均勻性 | ±2% |
| 基材最大卷經(jīng) | 570mm |
| 可鍍膜層種類 |
Ti、Cu等多種金屬膜 TiO2、TiN等化合物膜 最多一次可鍍六層膜系結(jié)構(gòu) |